產(chǎn)品簡介：
Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設備。                                     

產(chǎn)品特性：
? 27.12MHz高密度等離子制程
 
? SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對應SiO2膜
 
? 以CF4+O2 Plasma實現(xiàn)腔體清潔功能
 
? 可對應有機EL（OLED）的低溫成膜用heater
 
? 使用Tray可搬送多種基板尺寸
 
? 通過使用真空Box實現(xiàn)C系列的間接連續(xù)制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

產(chǎn)品應用：
? 功率器件

? LED、LD、高速device等化合物相關

? 有機EL（OLED）開發(fā)

? 太陽電池開發(fā)